中國製造出EUV紫外超分辨光刻機。

中科院光電所超分辨光刻裝備項目副總設計師楊勇

介紹研製成功的裝備整機

這突破，在成都通過驗收。

該項目，由中國科學院光電技術研究所承擔，屬於重大的攻關項目，非常之重要，具有戰略意義。

這台光刻機還是世界上首台分辨力最高的紫外(即22納米@365納米)超分辨光刻裝備，並形成一條全新的納米光學光刻工藝路線，具有完全自主知識產權。

這一攻關項目國家啟動於2012年，距今僅僅不到8年時間！

中科院光電所項目組突破了高均勻性照明、超分辨光刻鏡頭、納米級分辨力檢焦及間隙測量和超精密、多自由度工件台及控制等關鍵技術，結合超分辨光刻裝備項目開發的高深寬比刻蝕、多重圖形等配套工藝，實現了10納米以下特徵尺寸圖形的加工。

中國研發的這台光刻機，形成了一條全新的超衍射納米光刻從原理、裝備到工藝的技術路線，具有完全自主知識產權，為超材料/超表面、第三代光學器件、廣義芯片等變革性戰略領域的跨越式發展提供了製造工具。

重要的是，中國研發的光刻技術，完全是走的新的技術路線，繞過了國外高分辨光刻裝備技術知識產權壁壘，實現源頭創新，是世界上首台分辨力最高的EUV紫外超分辨光刻裝備。中國科學院光電技術研究所超分辨光刻裝備項目副總設計師楊勇表示，該所沿預定科研研製路線，將在2020年研製成功可以製程5nm芯片的EUV紫外超分辨光刻機。

中國的科學家們，還製備出一系列納米功能器件，包括大口徑薄膜鏡、超導納米線單光子探測器、切倫科夫輻射器件、生化傳感芯片、超表面成像器件等。

而最關鍵的是，中國不僅僅有了獨特的光刻技術，還培養出一支超分辨光刻技術和裝備研發團隊。

相信通過這一團隊的不斷推進，會讓我國的光刻技術實現彎道超車。

延伸：

光刻機是做什麼用的？

用於生產芯片

光刻機是製造芯片的核心裝備，我國在這一領域長期落後。它採用類似照片沖印的技術，把一張巨大的電路設計圖縮印到小小的芯片上，光刻精度越高，芯片體積可以越小，性能也可以越高。

在全世界範圍內，能夠做出光刻機的公司只有少數幾家。而且，目前來說，全世界能生產出最先進的光刻機的企業只有一家——ASML。光刻機所屬的半導體加工業，目前基本屬於荷蘭和日本所壟斷。荷蘭有ASML，日本則有尼康，這兩家都是生產光刻機的公司。但是。ASML在光刻機的市場份額上占據了八成之多。

最頂尖的光刻機，只屬於ASML，之前其它企業根本沒有辦法做出來。現在世界上最頂尖的光刻機是EUV光刻機，也就是極紫外線光刻機。這種光刻機，屬於ASML公司獨家壟斷，所以這一家荷蘭公司將每一台光刻機都賣到了一億美元以上。但就算ASML公司將每一台光刻機都打出了天價，但其產能還是會在生產之前就被預定一空。其中，向ASML購買光刻機的公司包括英特爾、三星和台積電等等的國際芯片大廠。

2018年，中芯國際斥資1.2億美元購買了一台EUV極紫外光刻機，目的是未來可以生產7nm工藝芯片。與此同時，長江存儲同樣從荷蘭ASML（阿斯麥）購買了一台機器，唯一不同是的是193nm沉浸式，能用於生產20-14nm工藝的3D NAND閃存晶圓，售價7200萬美元一台。

而購買不到、自己又沒能力製造頂級光刻機，是一直以來國芯片技術無法突破的重要原因！

所以，中國此台擁有完全知識產權、技術領先的光刻機的問世，加之隨後的技術升級，將完全改變世界光刻產業、芯片產業的版圖。

特別是中國的光刻技術完全不同於歐美日路線，伴隨着持續研發，中國將在這一領域彎道超車。