| 2018年11月30日：中国研制成功EUV光刻机，可加工10纳米级芯片，2020年可加工5纳米芯片 |
| 送交者: 2020年01月07日18:52:53 于 [世界军事论坛] 发送悄悄话 |
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中国制造出EUV紫外超分辨光刻机。 中科院光电所超分辨光刻装备项目副总设计师杨勇 介绍研制成功的装备整机 这突破，在成都通过验收。 该项目，由中国科学院光电技术研究所承担，属于重大的攻关项目，非常之重要，具有战略意义。 这台光刻机还是世界上首台分辨力最高的紫外(即22纳米@365纳米)超分辨光刻装备，并形成一条全新的纳米光学光刻工艺路线，具有完全自主知识产权。 这一攻关项目国家启动于2012年，距今仅仅不到8年时间！ 中科院光电所项目组突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制等关键技术，结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺，实现了10纳米以下特征尺寸图形的加工。 中国研发的这台光刻机，形成了一条全新的超衍射纳米光刻从原理、装备到工艺的技术路线，具有完全自主知识产权，为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性战略领域的跨越式发展提供了制造工具。 重要的是，中国研发的光刻技术，完全是走的新的技术路线，绕过了国外高分辨光刻装备技术知识产权壁垒，实现源头创新，是世界上首台分辨力最高的EUV紫外超分辨光刻装备。中国科学院光电技术研究所超分辨光刻装备项目副总设计师杨勇表示，該所沿预定科研研制路线，将在2020年研制成功可以制程5nm芯片的EUV紫外超分辨光刻机。 中国的科学家们，还制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等。 而最关键的是，中国不仅仅有了独特的光刻技术，还培养出一支超分辨光刻技术和装备研发团队。 相信通过这一团队的不断推进，会让我国的光刻技术实现弯道超车。 延伸： 光刻机是做什么用的？ 用于生产芯片 光刻机是制造芯片的核心装备，我国在这一领域长期落后。它采用类似照片冲印的技术，把一张巨大的电路设计图缩印到小小的芯片上，光刻精度越高，芯片体积可以越小，性能也可以越高。 在全世界范围内，能够做出光刻机的公司只有少数几家。而且，目前来说，全世界能生产出最先进的光刻机的企业只有一家——ASML。光刻机所属的半导体加工业，目前基本属于荷兰和日本所垄断。荷兰有ASML，日本则有尼康，这两家都是生产光刻机的公司。但是。ASML在光刻机的市场份额上占据了八成之多。 最顶尖的光刻机，只属于ASML，之前其它企业根本没有办法做出来。现在世界上最顶尖的光刻机是EUV光刻机，也就是极紫外线光刻机。这种光刻机，属于ASML公司独家垄断，所以这一家荷兰公司将每一台光刻机都卖到了一亿美元以上。但就算ASML公司将每一台光刻机都打出了天价，但其产能还是会在生产之前就被预定一空。其中，向ASML购买光刻机的公司包括英特尔、三星和台积电等等的国际芯片大厂。 2018年，中芯国际斥资1.2亿美元购买了一台EUV极紫外光刻机，目的是未来可以生产7nm工艺芯片。与此同时，长江存储同样从荷兰ASML（阿斯麦）购买了一台机器，唯一不同是的是193nm沉浸式，能用于生产20-14nm工艺的3D NAND闪存晶圆，售价7200万美元一台。 而购买不到、自己又没能力制造顶级光刻机，是一直以来国芯片技术无法突破的重要原因！ 所以，中国此台拥有完全知识产权、技术领先的光刻机的问世，加之随后的技术升级，将完全改变世界光刻产业、芯片产业的版图。 特别是中国的光刻技术完全不同于欧美日路线，伴随着持续研发，中国将在这一领域弯道超车。 |
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