| This is old fake news |
| 送交者: usezguy 2020月01月07日21:22:17 于 [世界军事论坛] 发送悄悄话 |
| 回 答: 2018年11月30日：中国研制成功EUV光刻机，可加工10纳米级芯片，2020年可加工5纳米芯片 由 石国成 于 2020-01-07 18:52:53 |
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中国《科技日报》12月3日刊文抨击了对这条消息进行夸大解读的报道。文章指出，很多报道以“打破‘芯片荒’”、“国产光刻机大突破”为噱头，实际上属于接近谣言的“自嗨文”，是“漫无边际的瞎扯” 中科院研制的新型光刻机的意义是用便宜光源实现较高的分辨率，以便用比较经济的方式实现一些特殊制造场景，而不是像一些网媒说的那样用来“光刻CPU”。 《科技日报》披露，在中科院11月29日举行的验收会上，有记者提问，“该光刻设备能不能刻芯片，打破国外垄断？” 中科院光电所的专家当时回应称，“紫外超分辨光刻装备”用于芯片需要攻克一系列技术难题，“距离还很遥远”。 文章总结，中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机“不是一回事”，更无法用“弯道超车”来形容。 |
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