别了,ASML,2024年9月11日下午,深科技发布一条有关中国EUV光刻机消息 |
送交者: 2024年09月12日18:30:47 于 [世界军事论坛] 发送悄悄话 |
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上海微电子装备集团股份有限公司(SMEE)在2024年9月10日披露“极紫外辐射发生装置及光刻设备发明专利”。专利申请日期是“2023年3月9日”;申请编号是SN202310226636.7”;登记法明认为:王伟伟、付辉、卢家玺、张洪博、蔡万宠、张子宸…… 该专利的申请日是2023年3月9日,而申请公布日期是2024年9月10日。期间整整过去了18个月。在这18个月里,美国连续施压荷兰政府,迫使荷兰政府于近日针对中国扩大光刻机管制范围。正是在这样的背景下,上海SMEE发布专利申请其意义重大,它预示着中国半导体制造业走过了黎明前的黑暗,即将迎来划破暗夜的曙光。 还记得尹志尧8月说过的话吗——半导体设备制造自主可控。 1949年9月21日,中国人民的伟大教员说—— 我们的工作将写在人类的历史上; 占人类总数四分之一的中国人从此站立起来了。 我们的民族将从此列入爱好和平自由的世界各民族的大家庭,以勇敢而勤劳的姿态工作着,创造自己的文明和幸福,同时也促进世界的和平和自由。 我们将以一个具有高度文化的民族出现于世界。 我们的国防将获得巩固,不允许任何帝国主义者再来侵略我们的国土。我们将不但有一个强大的陆军,而且有一个强大的空军和一个强大的海军。 让那些内外反动派在我们面前发抖吧,让他们去说我们这也不行那也不行吧,中国人民的不屈不挠的努力必将稳步地达到自己的目的。 |
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