| DUV光刻機可以量產了，補齊雙工件台和平面光柵激光干涉儀，水平達到ASML，兩次光刻達14納米，三次達7納米，四次達5納米。 |
| 送交者: 2023年02月17日12:00:49 于 [世界军事论坛] 发送悄悄话 |
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