DUV光刻機可以量產了,補齊雙工件台和平面光柵激光干涉儀,水平達到ASML,兩次光刻達14納米,三次達7納米,四次達5納米。 |
送交者: 2023年02月17日12:00:49 于 [世界军事论坛] 发送悄悄话 |
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