随着中国芯片产业的不断发展，中国对芯片生产设备的需求也逐渐提升。从最初的28nm，再到14nm，最后到现在国际流行的7nm工艺，工艺的升级意味着中国需要更先进的生产设备，而其中最关键的设备无疑是光刻机。

光刻机也叫做激光雕刻机，是一种专门用来制造微小电子元件的设备，至于这个“微小”要微小到什么程度呢？就拿当今世界上最流行的芯片工艺来说，7nm工艺大概要求大概是人类头发丝的万分之一，可以想象这其中的技术有多难了。

然而，要制造出最先进的7nm芯片，就不能没有光刻机。近段时间，我国中芯国际与荷兰ASML公司闹得很不愉快，原因是中芯国际早在2018年就向荷兰ASML公司订购两台光刻机，其中包括一台EUV光刻机，然而，ASML到现在还没有完成交付。而对于中芯国际公司来说，EUV光刻机是最急需的设备，因为没有先进的EUV光刻机，中芯国际就没办法进行下一阶段的研发。

解决了芯片技术上的问题，却解决不了设备的问题，这是我国半导体行业的一个“心病”。可能一些小伙伴们就要问了，既然ASML公司不愿意卖给我们，我们为什么自己造呢？中国的光刻机也不一定比荷兰差呀。实际上，中国在光刻机上还真就比荷兰差很多，并且据专家估算，这中间至少有着15年的差距。

前面也说过了，光刻机是一种高科技产物，要求非常精密，一时间肯定是难以造出来的。而我国实际上也进行过光刻机的研发，并且这件事要追溯到半个世纪以前的60年代。当时，我国的专家们就已经研发出了65型接触式光刻机，而当时荷兰ASML公司还要过5年才成立，说来也是讽刺，既然我国当时领先了荷兰ASML五年，如今怎会变得如此落后呢？

原来，在80年代，我国光刻机技术出现了一次“滑铁卢”，不知道是科研资金不够还是“飘了”，我国科研人员甚至一度放弃了光刻机的研究，并且倡导从国外进口。可能当时的人没能考虑到进口的弊端，于是自研光刻机的事就一直被搁置了起来，就连前面20年的研究成果，也都付诸东流了。

也许是中国半导体行业的不景气，就连最后坚守在光刻机行业的武汉三厂最终也选择了转行，并卖起了零食，后来，直到台湾台积电公司开发出了193nm光刻机，国人才终于顿悟，原来直至今日，我国光刻机还是依靠进口。

（来源：“思想火炬”微信公号）