| 中国进步的速度多快，翻一翻旧帖真有些激动 |
| 送交者: eachus 2017月09月19日00:04:08 于 [世界军事论坛] 发送悄悄话 |
| 回 答: 光刻机领域中国接近世界先进水平，9nm线宽光刻实现突破 由 石国成 于 2017-09-18 21:47:01 |
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业内的网友这么预测过 光刻机，写在半导体行业重大突变的前夕 2015年作者预测： “3年内出22纳米的 ，2020年左右出14纳米的！！” http://bbs.wforum.com/wmf/bbsviewer.php?trd_id=344268 |
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