| 好像EUV技术撞到铁板上，2020年前希望渺茫留给中国发力 |
| 送交者: eachus 2017月02月02日18:57:01 于 [世界军事论坛] 发送悄悄话 |
| 回 答: 适于大规模生产的EUV光刻目前还没有 由 redredred 于 2017-02-02 12:35:33 |
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的空间，中国SP光刻机技术如果在2020年前突破10纳米以下，对正个半导体冲击非常巨大。 用颠覆性描述应该不过为。 原本以为中国在半导体行业被压迫，翻身机会渺茫，现在突然发现2020年是个转折点。 也可能是反攻的冲锋号。 |
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