捷径，并且通过弯道超车一举达到了世界顶级水平。 光刻界的所谓正道，是193nm沉浸式光刻机，现在各大名厂的顶级芯片基本上是靠它做出来的。再往前走，就是十字路口了，公认的正路是EUV，反正各大厂都这么认为，并且把身家性命压在这上面了，但后者目前还达不到大规模量产的水平，而且贵得贼死，一台机器就要上亿美元！ 土鳖这次是另辟蹊径开发了SP光刻机，用表面等离子体超衍射光学光刻的原理，能刻出相当于光源波长十分之一甚至二十分之一分辨率的产品。因此我们就绕开了光源等方面的技术瓶颈，用简单可靠的技术实现了一步登天的技术跨越。 母机跟制程是两码事。你说的试制中的7nm制程，是多次曝光的结果。我们这个单次22nm，你多次曝光后，一样能达到10nm以下，达到国际先进甚至领先水平。 关键是我们这个新技术线路前景很远大。国外已经把传统工艺几乎做到极致了，但我们这个在许多环节上还大有精进的空间，再改进改进，把对手甩开不令人惊奇。而且这个线路的成本极低廉，商业上竞争力极强。 特别值得点赞的，是我们的创新精神。这次不是跟着人家PG后面追，而是独创了全新的技术路线。如果我们最终走通了这条路，可能会给世界IT行业带来颠覆性的重新洗牌。