版主:黑木崖
    
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DUV还差不少,有5-10年升级空间,谈不上搞EUV
送交者: bookmarks 2022月07月26日23:14:33 于 [世界军事论坛] 发送悄悄话
回  答: 我早说过了,良率成本远差台积电。将来还是绕不过EUV 也是明眼人 于 2022-07-26 22:11:04
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  米国要卡56纳米DUV,因为争夺要点已经转向低端产能。  /无内容 - bookmarks 07/26/22 (232)
    中国每年进口一千多元美元芯片,替代肯定是由低而高进行  /无内容 - bookmarks 07/26/22 (192)
  米国要卡56纳米DUV,因为争夺要点已经转向低端产能。  /无内容 - bookmarks 07/26/22 (147)
    美国又晚了一步,上海微电子的28纳米光刻机快出来了。  /无内容 - 老六路 07/27/22 (301)
      目前SMEE光刻机最小制程是90nm,你哪里来的消息?  /无内容 - 也是明眼人 07/27/22 (192)
        90nm是2年前。SEMM的65nm光刻机最近入驻青岛 - bookmarks 07/27/22 (216)
          通常3-4年DUV能升级一代。6-8年,国产能升到14nm  /无内容 - bookmarks 07/27/22 (136)
      正好让ASML的DUV让出市场,完美配合。  /无内容 - 老六路 07/27/22 (201)
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