日前，全球光刻巨头ASML（阿斯麦）正式澄清，EUV要进口到中国大陆完全没有任何问题！2019年，中国大陆或将迎来首台EUV光刻机。

众所周知，芯片是电子产品所必不可少的组件，芯片制造商要想成功地制造出芯片来，必须用到光刻机。对芯片制造商来说，光刻机就是核心的生产设备。

目前，全球仅有极少数的光刻机设备厂商能够研制出高端光刻机，而荷兰的ASML则拥有全球晶圆厂光刻机设备高达8成的市场份额，在干式曝光机、浸润式光刻机，EUV（极紫外线光刻机）的市场几乎处于独霸地位，台积电、三星、英特尔等国际半导体巨头都是其客户。

由于EUV光刻机的生产难度和成本都非常大，导致ASML的EUV全年出货仅12台，明年可望增加至20台，现累积未出货订单约27台，其中有5台已被台积电预订，费款高达5.5亿美元。

在国内，一直流传着一种声音....受西方《瓦森纳协议》的限制，中国只能买到ASML的中低端产品，出价再高，也无法购得ASML的高端设备。甚至还有人认为，台积电、三星等在制程上之所以大幅领先中芯国际，主要是因为ASML最先进的光刻机对大陆禁售。

那么，ASML的EUV光刻机真的对大陆禁售？到底是受产量限制，还是相传受到国际条约《瓦森纳协议》的制约？

近日，ASML中国区总裁金泳璇在接受媒体（DIGITIMES）采访时正式澄清，ASML对大陆晶圆厂与国际客户一视同仁，只要客户下单，EUV要进口到中国完全没有任何问题。在交期方面，所有客户也都完全一致，从下单到正式交货，均为21个月。

他还透露，目前已有大陆晶圆厂巨头与ASML展开7纳米工艺制程的EUV订单洽谈，2019年大陆首台EUV可望落地。

值得一提的是，中芯国际正好在今年3月宣誓进军7纳米，还表示已和ASML达成合作。由此看来，ASML所说的“大陆晶圆厂巨头”应是中芯国际无疑了！

没有EUV，大陆芯片制造死路一条

作为集成电路制造过程中最核心的设备，光刻机至关重要，芯片厂商想要提升工艺制程，没有它万万不行，中国半导体工艺为啥提升不上去，光刻机被禁售是一个主要因素。

一般来说，一家芯片代工厂，从客户那里获得一个芯片生产订单开始算起，需要在60天内为该客户生产完所有硅片，这些硅片经过封装和测试等环节后，大约又需耗时一个月。

不过，如果这家芯片代工厂采用EUV光刻技术，所用生产时长将会大幅缩短，并且产品良率也会提高很多。EUV最大的优点就是20多天即可出厂，而用其他工艺则要80多天。

所以说，大规模量产必须要用到EUV。而且，没有EUV光刻机，大陆晶圆代工厂在7纳米之战中毫无胜算！

下附问答全文：

问：针对国内市场 、客户，各方现在传出许多声音，听说国内晶圆厂都预定不到EUV光刻机 “有钱难买EUV”？ 

答：首先，我必须澄清这绝非事实。中国本地的晶圆厂与所有国际客户，于ASML而言都是一视同仁的，只要是确认订单，EUV要进口到中国完全没有任何问题。

由于EUV零组件多达5万多个部件，从客户下单到正式交货，交期约21个月，这个情况，对每个客户都是完全一致的。

事实上，大陆客户已进入7纳米工艺制程技术研发阶段，并且与ASML展开EUV的商谈。如果最终订单确认，最快预期2019年EUV会首次移入中国晶圆厂，我们对在中国客户装入中国第一台EUV光刻机，抱持乐观的期待。同时认为一旦一家中国客户采用，其他客户也会快速跟进。

问：EUV似乎是持续推进摩尔定律、延续未来纳米工艺往下延伸的关键，未来进一步规划与ASML对摩尔定律的看法？

答：毫无疑问摩尔定律会继续下去，但每一制程技术节点之间的时间会延长，技术与资本门槛变得更高。

浸润式显影技术走到三重曝光(triple-patterning)阶段，成本已然超过EUV，生产交期更长、技术更为复杂，从量产的性价比角度，EUV在7纳米以下技术节点已属于最适方案。

目前EUV光源已经可达250watt，达到每小时量产125片12吋晶圆，下一阶段5纳米技术节点以下High-NA EUV已经在布局研发。

问：目前中国市场业务布局与销售情况如何？ 2017年全年成长幅度与2018年的增长率预估？

答：全球半导体行业版图位移，不仅本地晶圆厂，包括国际晶圆厂也在增加中国投资，ASML预期，中国光刻机市场规模具30亿欧元潜力。

总体而言，目前ASML在中国市场的装机量累积已达约500台，2018年可望续增超过50台的装机量。不仅一线大客户，还涵盖许多中、小型晶圆厂共计多达40多家客户。

从销售额轨迹来看，中国市场销售额在2013-2015年维持持平，2016年微幅成长至6亿欧元，2017年上半年中国市场销售水平已达4亿欧元，因此今年将较去年将有明显增长。

由于中国晶圆厂2018-2019年持续投入资本扩充产能，ASML 2018年销售很可能创下中国区销售新高的纪录，而2019年也会持续呈现更明显的跳跃式增长。