要製造五納米的芯片。的確需要euv光刻機。但是這其實不是那麼必要的。中國現在已經有能力至少自己的高端duv光刻機。就是大家說的零二專項。smee現在就在突破浸入式duv。之前由於華為挖人、美國各種專利限制、光學供應商始終無法達到要求，90nm採用的是日本供應商技術。被國內一幫民粹罵的狗屎不如。現在由於asml打小報告，現在日本的供應商也沒法供應了。之前由於smee整出90nm，asml在中國大陸一倒賣二手未名已基本降價，70%到80賣，smee原來的用戶只有兩個，一個軍方，一個研究所，荷蘭人深知產品如果不使用不共同發展，是不可能成功的。所以對於美國的各種限制，其實他們最急，我就遇到一個德國專門做禁片處理的公司。不是那個著名的做鏡片的卡爾蔡司。他們現在最主要的客戶就是asml，他說他們接觸到最多的工程師其實不是asml的，大多數都是華人。其實是用戶幫助了生產廠商發展起來的。   

話說回來。我們現在已經基本具備製造一個28nm浸入式光刻機的能力。簡單的來說，通過多次曝光可以完成相對較高成本的7nm，甚至台積電式的5nm，因為現在誰都知道台積電的製程宣傳，實際只是個產品名稱，跟真實的半導體製成關係並不大。比如英特爾的10納米其實和台積電的7nm相比較進氣管密度可能會更高。所以光刻機並不是一個大問題。中國光刻機的發展最主要的限制，就是在專利，所以現在asml發現自己對美國勸說根本無效的情況下。開始發起對中國的專利戰，我早就說過對於這種情況，中國應該宣布任何對中國進行禁運的技術，其專利在中國都是無效的。現在在眾多關鍵技術上面，我相信已經在這麼做了。

一個半導體其實不是只有光刻機。從晶圓製造到封測，整個過程當中有很多限制。現在中國的製造技術中，70%到80都需要進口。各類材料也是自己不能製造的。但是我們要相信其中的大多數都不在禁運清單裡，中國不造，純粹只是成本問題。比如電子氣，還有很多，其實就是knowhow積累實在太少。但是現在在美國的幫助下，已經有長足進步。比如eda，恰恰是光刻機，這種東西美國才不會對你全面禁運。因為中國的技術已經很先進了。

話說回來，現在中國的軍用芯片已經全面國產化。28nm不受任何限制的生產也會在一年內實現。所以說五到七納米以上的芯片在兩年內對中國的限制，是沒有任何意義的。但更要命的，不是這裡，而是心儀的半導體的出現。雖然傳統第三代半導體已經在功率高壓等方面已經獲得長足的進步。但如果類似於像石墨稀等完全顛覆式的技術。可以真正的從工程方面應用起來。那麼等下製成將直接擴大30倍，也就是100納米期效率和熱和現在的手機芯片差不多。同時，新的製造技術也在流行。比如nif這些才是中國現在要迎頭趕上的。還好，中國在激光技術上比較先進。所以芯片製造是要花很多錢，但是關鍵的地方是在與在卡脖子的地方一定要卡位。即便這已經是落後的技術。現在對於中國來說，找什麼東西並不難，最關鍵的是成本。