就在国际媒体圆桌会议上，余承东当着一众海外记者的面明确表态：EUV极紫外光刻设备是先进芯片的关键，中国目前正在研发这些设备。

这话从他嘴里说出来分量完全不同 ，这不是科研院所的论文，也不是行业博主的爆料，是国内半导体产业核心人物首次在国际场合公开确认 EUV 的研发布局，等于直接把中国半导体的长期战略摆到了全世界面前。

以前外界总在猜，中国是不是就守着成熟制程过日子，先进制程装备干脆放弃了？

这次直接给了最明确的答案：根本不可能。我们非但没止步，反而直接把 EUV 级别的光刻装备当成了自主攻坚的核心目标，先进制程装备自主可控，就是明明白白的产业战略方向，没有任何含糊的空间。

而且余承东特意提到 “国内相关领域的科研团队和产业伙伴正在全力攻坚”，这话可不是随便说的。

EUV 研发从来不是某一家企业的单打独斗，是包括科研院所、装备企业、材料厂商的全链条协同工程，上到中科院的光机所去啃光源、光学系统这些硬骨头，下到精密机械、真空设备、材料厂商去搞定各个子系统，还有行业头部企业做系统组装和工艺验证，整条产业链拧成一股绳在往前冲。

为啥说这东西非得举国之力才能搞成？

因为 EUV 的技术难度真的实在是太难了。就说最核心的光源，得在真空环境里让融化的锡液滴以每秒 5 万次的频率精准下落，然后用高功率二氧化碳激光器枪枪命中每一滴锡，让它瞬间蒸发成等离子体，才能辐射出 13.5nm 波长的极紫外光。

这就意味着，控制精度要到纳米级，还得长时间稳定不中断，难度大概相当于在几公里外拿针头连续扎几万只蚂蚁，还不能有一次跑偏。

更反常识的是，EUV 光会被空气、玻璃几乎完全吸收，所以整条光路都得处于高真空环境，连传统透镜都不能用，全部依靠反射镜传输光线，整套光学设计逻辑和以前的 DUV 光刻机完全是两个体系，等于从头搭建一套全新的工业标准。

很多人以为 ASML 是凭一己之力造出 EUV 的？其实大错特错。

ASML 的核心定位从来不是全栈制造商，而是全球顶级供应链的系统集成商。像EUV的技术突破，就是美国集结了英特尔和美国五大国家实验室等一批企业、大学、科研机构来搞定的。

而且ASML的 EUV 机器整合了西方多个发达国家的顶尖技术：美国 Cymer 公司提供核心的高功率二氧化碳激光器和锡滴发生器，还有掩膜台、高精度计量系统、计算光刻软件这些关键子系统也都是美国技术， 这也是为啥美国能对EUV光刻机出口管制的核心原因。

还有德国蔡司提供顶级反射镜，再加上全球 5000 多家供应商的零部件，最后由 ASML 定义整机架构、制定技术标准，完成集成验证。

说白了，ASML 是站在整个西方工业体系的肩膀上才做成了这件事。

而这次余承东当着外媒的面公开确认进度，本质上就是对外传递一个再明确不过的信号：别指望用技术封锁让我们放弃高端半导体装备的研发，技术自立的长期战略，不会有任何动摇。

而且敢公开说这件事本身，就意味着我们已经走过了最早期的摸索阶段，光源、反射镜、精密工作台这些核心子系统都有了实质性突破，正式进入了系统攻坚的深水区。以前总说 EUV 是人类工业皇冠上的明珠，现在看来，这颗明珠，我们也迟早要攥在自己手里。