华为作为国内最顶尖的科技企业之一,可以在智能手机、5G通讯、软件系统等多项领域做到全球之最,然而,面对老美断供芯片,却几乎没有还击的余力,这很大程度上也反映了我国半导体芯片水平的现状。
虽然芯片被“卡脖子”的确很“痛”,可好的一方面是,经此一役,国产企业彻底认识到技术自主的重要性,国内几乎再也听不到“造不如买、买不如租”的声音了,相反,芯片国产化的呼声此起彼伏、不绝于耳。
达成共识
为了突破西方的“芯”围剿,任正非在访问9大高校与中科院后,多方达成了一个共识,那就是从光刻机这项芯片的核心制造设备入手,有指向性的打开局面。
在光刻领域,全球知名的四家制造厂商,分别是荷兰的ASML,日本的老牌光刻巨头尼康、佳能,以及我国的上海微电子。不过,能够生产高端光刻设备的,却只有ASML一家。
台积电创始人张忠谋曾经说过:大陆的光刻水平落后ASML至少5个隔代,芯片制造水平则落后台积电至少3个隔代。另外张忠谋补还充道:台积电的优势集中体现在EUV光刻机上。
事实也的确如此,我国不缺芯片制造技术和人才,芯片产业落后的主要问题,就是因为老美限制ASML出口给我们较为先进的美系光刻机。
国产光刻机升级完成!
好消息是,老美毫无底线的打压与限制,让国产科技企业不得不抱团取暖,这给国产光刻机的发展提供了巨大的市场助力和快速成长的环境,仅仅两三年的时间,国内就不断传出有关光刻设备取得进展的好消息。
先是清华大学突破EUV核心的光源技术,之后是上海微电子从国产90nm光刻机完成了到28nm光刻机的技术升级。
近日,上海微电子再次传出好消息,自研的深紫光28nm光刻机已通过技术认证与检测,将于年内正式量产商用。据业内人士分析,这款深紫光光刻机与ASML的DUV光刻机,曝光精度在同一水平线上。
要知道,英特尔使用DUV光刻机完成了10nm工艺芯片的制造,台积电则是通过多次曝光的先进工艺,使用该设备,率先完成了7nm芯片的量产。也就是说,有了上海微电子的28nm光刻机,我们将完全有可能从28nm成熟芯片工艺,一举迈入7nm先进工艺的行列。
“焦虑”的不止ASML
据统计,上海微电子在国内光刻市场的份额占比在这两年迅速攀升,目前高达80%,随着28nm光刻机的下线,这个数值将会继续升高。
对全球最大的光刻巨头ASML来说,这简直就是个“晴天霹雳”,要知道它先后数次示好我国市场,就是不希望有朝一日被排除在外。但是,不好意思,我们最需要的时候你不能供货,现在我们有了,你着急也怪不得我们。
其实,相比ASML,美科技界更加坐立不安。
我们实现光刻自主,ASML丢失的无非是我国光刻市场份额。但是,我们实现芯片自主,老美丢失的将是全球半导体市场的主导权。
我国是全球最大的芯片消费市场,近几年的年均进口值突破了3000亿,占全球比例的30%,海外所有先进的芯片企业几乎都要围着我们转。我们多花点钱进口芯片设备以实现发展、外企多赚点钱实现更多的盈利,这本来是互惠双赢的好事。
但不安分的老美非要整“芯片断供”这么一出,直接打破了平衡局面,结局就是,我们实现自给自足,美系企业生产的设备、制造的芯片无人问津。谁的损失更大、更惨,一目了然