版主:黑木崖
    
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纯国产EUV绝对可以做出来,攻关能带动精密设备研发上一个台阶
送交者: 也是明眼人 2022月07月30日21:19:39 于 [世界军事论坛] 发送悄悄话
回  答: 国产光刻机取得重大突破 光刻机行业前景如何? zt eastwest 于 2022-07-30 15:13:57

个人认为,利用现有ASML的DUV甚至可以勉强做出5纳米制程,如果不在乎良率。纯国产类似性能DUV估计也近期可以量产,勉强做出7纳米。将来可以在光源上稍改进,提高良率。甚至可以试试八重曝光,冲击一下5纳米。填补在EUV研制成功前的空白。

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  EUV研制难度十倍于DUV,国货加油  /无内容 - 也是明眼人 07/30/22 (158)
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