上海微电子建造的28纳米光刻机，原计划2021年底建成投入市场，却因检验发现技术不过关，不得不推迟了两年，预计2023年底完成。

那么，到底是什么原因使得这台光刻机技术未过关呢？根据所得信息，答案就两个字：良率。且听下面解释。

在实验室条件下，人们往往可以大概率造出100%国产化28nm芯片，但如果放在现实的生产中就有点悬了。良率问题一直是制约国产半导体设备普及推广的重要因素。

一般而言，光刻机良率保持在80%以上，生产企业才不亏本。但现实是：25%国产化的28nm制程生产线上，良率就已经掉到了75%，而随着国产化率的提高，良率也在不断下降，50%国产化的情况下，良率就已经掉到60%了。【注】

如果在2019年以前，国产化低就低吧，反正光刻机零部件多能从国外购买到。现在不行了，美国西方已基本切断了光刻机零部件的供应链，尤其是中高级光刻机的零部件，中国光刻机生产厂家不得不大量使用国产零部件。而这样一来，如何在高国产化的情况下，将光刻机良率提高到80%以上，是一个非常棘手的问题。

一台成功的商用光刻机有两个指标：（1）良率在90%以上；（2）能够在一定时间内生产出大量合格的芯片，如一个月1千万枚。实验室的样机往往达不到这两个指标，因此就无法推广到市场去。

希望上海微电子能够顺利解决高国产化与高良率之间的矛盾，成功推出中国第一台商用28纳米光刻机。

【注】参考文献：https://36kr.com/p/2387804804348161