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华为+中科院攻关EUV光刻机?ASML华裔工程师:天方夜谭
送交者:  2020年10月08日08:49:18 于 [世界时事论坛] 发送悄悄话

916日,中国科学院院长白春礼在国新办发布会上介绍称,率先行动计划第二阶段要把美国卡脖子的清单变成科研任务清单进行布局,集中全院力量聚焦国家最关注的重大领域攻关。

此外,白春礼还表示,面临美国对中国高科技产业的打压,未来十年将针对一些卡脖子的关键问题做一些新的部署。他强调,后续科学院将在率先行动的第二个阶段目标中,卡脖子的问题和国外出口管制的清单转化为我们的任务清单。

对于中国科学院院长白春礼要把美国卡脖子的清单变成科研任务清单进行公关的表态,以及华为创始人兼总裁任正非突然对于中科院的拜访,外界有网友猜测,华为将会与中科院携手,攻关EUV光刻机技术。

那么,华为携手中科院,能够在EUV光刻机上实现突破吗?

华为+中科院攻关EUV光刻机?ASML华裔工程师:天方夜谭

对于中国光刻机未来的发展,近日一位自称是ASML华裔工程师的网友在网上发表了自己的看法。以下为原文:

大陆的半导体代工企业大概什么时候能超过台积电?这个问题是说十年内,二十年内还是一百年内?

我目前就在ASML公司工作,做的就是最新一代的EUV光刻机。这么说吧,咱们先别说把(EUV)光刻机给造出来,就是把(EUV)光刻机给用好都是一件无比复杂的事情。

台积电算是我们的客户,我很佩服台积电的工程师或者说他们整个的体系。他们对光刻机的使用达到了某种让人钦佩的高度,多的东西涉及到保密不能谈。

打个比方,如果台积电是美国海军拥有十艘十万吨级核动力航母,中国芯片制造商大概就是中共海军,而且是在辽宁舰未拖进港时期的中共海军。

你说中国会不会有朝一日造出十万吨级别的核动力航母?这个当然有可能,但是什么时候能造出来,这个真的不好说,需要天时地利人和都具备了才行。

这些条件包括或者可能包括:

国家要下大决心,要做好十几年甚至二十年一直亏钱的准备;外部技术封锁要有些松动(包括各种光学器件、光刻机、光刻胶等等……);要有一流人才愿意给中国效力(比如钱学森这种大牛);需要大量从业的工程师来进行过渡;三星Intel,台积电的某一家要出一个大问题,倒闭或者破产,这样能让出市场份额,给予中国公司发展机会;新技术恰好在国家大力投入的时候兴起(实现弯道超车);

讲句心里话,有这个钱重新在中国建立起一家台积电一样的公司,还不如用这个钱直接收编台积电。从成本上来看,后者很可能更加便宜。

要我说,台积电这种巨无霸如果不是遇到芯片制造的重大革命,或者其他危机,中国企业很难超越!

我总有一种朦朦胧胧没有根据的感觉,我觉得未来的芯片很可能不是硅片,而是碳,是石墨烯的某种应用。

所以,如果从大的笼统的方面来说,中国用新的芯片制造技术超越台积电还是可能的。

大家可能对所谓芯片制造不太了解。这么说吧,如果欧洲一夜之间蒸发了,美国想要重新造出性能相似的光刻机来,至少需要五年!

所以中国要造新型EUV光刻机并不是中国单挑美国,而是中国单挑外国!别的不说,高性能的滤光片,对极端紫外线高反射率的镀膜,耐用的商业激光器……没有一个是中国自己能够造出来的!更确切的说,不是中国造不出来,而是美国有很多也造不出来!

镀膜、滤光片、半反半投镜……这些技术低性能也就罢了,高性能的产品都是一年一年试出来的,欧洲起步早,试验的多就是世界最强!

中国起步晚,短时间内就是造不出来。因为,没有这些基础器件,谈造EUV光刻机就是天方夜谭!

所以造光刻机跟造航母不一样,航母并没有在全球的产业链里面。而光刻机是全球产业链整合出来的产品。针对中国的技术封锁如果没有松动,需要重复做的事情太多,绝非十年二十年,靠中国单打独斗能成的。

假如大家还觉得市场、钱、政策能够大跃进式地造出光刻机,那就是绝对错误的认识。

我觉得吧,承认某些东西自己确实不行,努力也不行,需要外国帮助,也不是什么坏事。盲目乐观才会断送自己的前程。

当然EUV作为新一代的技术能够实现7nm5nm的光刻,虽然更加先进,但是如果真的台积电被迫不能给中国大陆)代工,我们依然可以使用老一点的技术。使用老一点的技术也足以保证国内正常的需要。这也是为什么国家在这个领域没有那么大的动力和决心的一个原因。

总之呢,EUV光刻机可以看作是美元霸权的衍生品。美元霸权还在,中共就无法在这一领域取得重大突破。当且仅当EUV光刻机所需的基础配件能够自由进口到中国的时候,中国才有可能在这个领域有突破。

最后,我再强调一个概念!可以商用化的产品跟实验室里能够实现之间差了十万八千里!实验室里实现的意思是不考虑成本,不考虑稳定性,能够有那么一次或者两次做成。

商用产品的概念是:稳定、高效、可控、能赚钱

EUV光刻机来说,中国做得最好的大概是长春光机所,也就是搭建了一套实验室的EUV光源设备,而且从技术的实现来看,他们选择了另外一条技术路线,EUV输出的可控性必然不足,商业化依然有巨大瓶颈。至于ASML现阶段的技术,就算中国造出一模一样的东西来,还有专利的麻烦在那里,要规避这一堆专利而商业化几乎做不到。

这东西跟航母、战斗机不一样。航母,战斗机你就算仿造别人的也没法起诉侵犯专利。光刻机你要是用同样的原理,光是赔专利侵权就要倾家荡产。

总之呢,如果技术不革新,这一块儿中国想要后来者居上几乎做不到。至于台积电,它是使用EUV光刻机的厂商,如果大陆都没有EUV光刻机可用,谈什么超越台积电呢?

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