中科院強激光材料重點實驗室近期在13.5nm軟x射線反射鏡研製方面取得重要進展，技術性能指標達到國際先進水平。經合肥國家同步輻射實驗室測試，反射鏡S分量反射率最高值達到67.8%（34.4°入射）。
13.5nm軟x射線多層膜反射元件與現代科學技術研究的前沿課題密切相關，在天文學、極紫外光刻、x射線激光以及同步輻射裝置等方面都有重要應用。如同可見區高反射膜，軟x射線反射膜也需要兩種折射率差較大的材料配對，通過多層界面反射光的相干疊加增強反射率。現有可用材料均對軟x射線存在吸收，使得高反射率反射鏡的設計和製備存在很大難度。
中科院強激光材料重點實驗室採用超光滑Si片做基底，並進行精細表面清洗處理，使用磁控濺射技術精確控制薄膜周期厚度及結構。在合肥國家同步輻射實驗室的U26光譜輻射標準與計量實驗線站進行的反射率測量結果顯示：運用該技術方案製備的五個Mo/Si多層膜反射鏡，在34.4°入射時反射率峰值平均值達到66.9%，接近理論的最高反射率73.7%。
該性能指標已經達到國際先進水平，最高值達67.8%，同時已具備了小批量提供性能穩定的高質量反射鏡片的能力，將為我國在軟x射線領域的相關研究與應用提供有力的技術保障。
