是接触式压印光刻。

    打个比方，主流的光学光刻像是摄影术里面的缩微翻拍，让光源穿过掩膜，把上的图形借助透镜缩小4倍左右投射到硅片上，通过曝光形成图形后再进行蚀刻做成电路。而压印更像是传统的印刷，把同比例的模具直接压在硅片上，根据成形方式不同分热压、微接触和深紫硬化等。此文中提到的，就属于最后一种深紫外线硬化纳米压印技术，压印时加深紫外线照射，是通过硬化而避免脱模时变形。

    这种深紫纳米压印光刻机，因为不是光学的，所以可以避开光源波长的限制，理论上可以直接压印出精细到5nm的图形。这个精度甚至超过了主流的光学光刻，所以说可以替代一部分光学光刻的应用。

    但这个机器很小，比台式电脑大不了太多，可以摆在书桌上。而像EUV那样的高端光学光刻机，大概得有一个房间那么大。你甚至从直觉上就能看出两者的效率是不可同日而语的。高端的大型光学光刻机，比如说每小时能印上百片12英寸的晶圆，而这个小压印机，可能每小时只能印十几片，而且通常是4英寸左右的小晶圆。所以前者适合主流产品的大规模生产，而后者可以用来做一些产量不大但需要精度极高的比较特殊芯片。

    所以说，这种深紫纳米压印光刻机是不错的东西，但无法全面替代主流的光学光刻技术，而只能取代其中的一部分产品，因此靠它搞翻ASML是不可能的。

    另外，这种深紫纳米压印光刻也不是我们独创的，而是一位美籍华人发明的，不少国家都有搞。当然，正如大家想像的，我们的最便宜，竞争优势明显。不管怎么说，这个技术突破是好消息，但没有前段讨论的那个SP光刻机那么重大。