| 只能在实验室用 |
| 送交者: imhotep 2019月02月05日06:43:30 于 [世界军事论坛] 发送悄悄话 |
| 回 答: 中国造出首台自主新式光刻机，未来可造10nm芯片 由 也是明眼人 于 2019-02-04 22:29:41 |
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365nm 激发的表面离子束先天能量不足，损耗也高，能赶上ebeam 吗？ 这个东东距离大规模工业生产十万八千里 写文章的记者是闭着眼睛瞎扯 |
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