我们需要一种不会拐弯的物质来腐蚀金属表面，这种东西是什么呢？答案是“光”。光是不会拐弯的，所以可以笔直地腐蚀金属表面。当然了，这里的“光”不是真的光，而是一种等离子体，通过等离子体来对金属表面（或者说对晶圆表面）进行蚀刻。为什么等离子可以腐蚀金属表面、怎么产生等离子的，这个不重要，我们只需要知道等离子蚀刻更好、可以用来制造更精密的芯片就行了。中微半导体研发成功并已量产的7nm蚀刻机、5nm蚀刻机，都是等离子体“光”蚀刻机。中微半导体现在又研发出美国都没有的4nm等离子体“光”蚀刻机。现在美国业界很担心，中国在芯片领域的进步将在中微半导体引领下，迅速弯道超车，成为继高铁、核电外，又一张中国的亮丽名片，这是现实。台湾东森“关键时刻”的大嘴刘寳桀，你爲什么闭嘴不敢发聲了？因为吓死你了。比如说下面这幅图，就可以很好地说明两种刻蚀方法的区别。